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| 重摻硅襯底材料中氧沉淀研究進展 | | 更新時間：2007-05-23 來源：中華職工學(xué)習(xí)網(wǎng) | | 器件性能的提高，需要器件工藝的改善，另外還要有基礎(chǔ)材料質(zhì)量的保證。材料的發(fā)展更能促進器件發(fā)展的飛躍,而材料的性能又取決于其內(nèi)部結(jié)構(gòu)。半導(dǎo)體硅材料以豐富的資源、優(yōu)質(zhì)的特性、日臻完善的工藝以及廣泛的用途等綜合優(yōu)勢而成為當(dāng)代電子工業(yè)中應(yīng)用最多的半導(dǎo)體材料。
…… | | 關(guān)鍵字：金屬 冶煉 軋制 職業(yè) 描述 半導(dǎo)體 材料 制備 硅粉 高純 氫氣 制取 硅心 高純水 多晶 三氯氫硅 | | |
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| 對拋光片清洗技術(shù)的研究 | | 更新時間：2007-05-23 來源：中華職工學(xué)習(xí)網(wǎng) | | 目前在半導(dǎo)體工業(yè)生產(chǎn)中，普遍采用的清洗工藝是改進的RCA清洗技術(shù)，多年來，人們對RCA清洗技術(shù)的清洗效果進行了深入的研究，kern證明RCA工藝可在硅片的表面形成1～1.5nm的氧化硅鈍化膜[1]，okumura觀察到標(biāo)準(zhǔn)的RCA清洗對硅片表面有較嚴重的粗糙化…… | | 關(guān)鍵字：拋光片 清洗 研究 金屬 冶煉 軋制 職業(yè) 描述 半導(dǎo)體 材料 制備 硅粉 高純 氫氣 制取 硅心 | | |
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