牌匾也是許多標(biāo)牌廠生產(chǎn)的一種產(chǎn)品，牌匾主要以金屬材料為主，要求大方、明顯、裝飾性強。在傳統(tǒng)金屬牌匾中，以黃銅底、腐蝕字、注黑漆牌匾最為普通。隨著人們審美觀點的不斷變化，對牌匾的質(zhì)量也有了新的要求。由于標(biāo)牌行業(yè)引入了網(wǎng)印技術(shù)，也給標(biāo)牌行業(yè)開發(fā)新品提供了技術(shù)手段。利用網(wǎng)印法制作新型電鍍牌匾就是標(biāo)牌電鍍與網(wǎng)印工藝相結(jié)合的產(chǎn)物。它的基本方法是在銅板上用絲網(wǎng)印刷制作陰圖圖文，用墨層保護遮蓋非圖文部位，圖文部分的銅表面裸露，進行電鍍，再經(jīng)機械整形，保護加工而成。

　　1.工藝流程

　　本工藝涉及到電鍍、網(wǎng)印、銅板處理及噴漆和金屬工藝加工，工序較多，工藝流程大致如下：

　　銅板下料→印前處理→復(fù)核檢查→絲網(wǎng)印版制作→絲網(wǎng)印刷→干燥→鍍前處理→電鍍鎳層→清洗→電鍍鉻層→清洗晾干→　　退除印料→整形焊架→噴罩光漆→檢查出廠

　　2.主要工藝規(guī)程

　　1）網(wǎng)印

　　選用150目/英寸以上的尼龍或滌綸絲網(wǎng)。采用直接感光制版法時，涂布重氮感光膠的次數(shù)多一些為佳，以便印刷時能得到較厚的保護性墨膜。

　　2)曬版

　　曬版光源為1000W金屬鹵化物鏑燈，燈距45mm，曝光5分鐘左右。印料是抗電鍍油墨。

　　3）鍍前處理

　　鍍前處理液配方及工藝條件如下：　　

　　H2SO4　　　　　　160ml/L　　
　　H2O2　　　　140ml/L　　
　　CH3CH2OH　　　　　　120ml/L　　
　　CH3COOH　　　　　　30ml/L
　　
　　溫度　　　　室溫　　
　　時間　　　　0.5～1分鐘　　
　　弱腐蝕活化溶液　　　　H2SO4　　10%溶液　　

　　4）電鍍亮鎳

　　電鍍鎳的配方及工藝條件如下：

　　NiSO4　　　　350g/L　　
　　NaCl　　　　　　20g/L　　
　　H3BO3　　　　40g/L　　
　　糖精　　　　0.8～1.0g/L　　
　　BE添加劑　　　　0.6ml/L　　
　　十二烷基硫酸銅　　　　0.05～0.1g/L　　
　　pH值　　　　　　4　　
　　溫度　　　　50～55℃　　
　　電流密度　　　　3～5A/dm2　　
　　攪拌　　　　陰極移動　　
　　時間　　　　30～40分鐘　　

　　5）電鍍鉻層

　　電鍍液配方及工藝條件如下：　　

　　CrO3　　　　300g/L　　
　　H2SO4　　　　2.7～30g/L　　
　　Cr　　　　　　2～5g/L　　
　　電流密度　　　　25A/dm2　　
　　溫度　　　　　　50～55℃　　
　　時間　　　　2分鐘　　

　　6）整形焊架

　　焊架可上下折邊，左右焊堵；也可左右折邊，上下焊堵；或四面折邊、四面焊堵。

　　7）噴罩光保護漆

　　由于牌匾是全金屬，沒有漆墨圖文，所以，可根據(jù)需要，噴罩各種透明漆。但以透明度好、耐曬、結(jié)合牢固的漆層為佳。